本クリーンルームにはマイクロ・ナノデバイスを作製するためのプロセス装置を揃えています。
描画装置
電子線描画装置
電子線を用いることで数十nmの極微細なパターンを描画できる
エッチング装置
成膜装置
PECVD(気相堆積装置)
シリコン系の膜を成膜します。
- 電子線描画装置
- 電子線を用いることで数十nmのパターニングが可能
- コンタクト式両面アライナー
- ICP-RIE(シリコン深掘りエッチング装置)
- シリコンを垂直にエッチング(掘る)装置
- 蒸着器
- PE-CVD(気相堆積装置)
- SEM(走査型電子顕微鏡)
- AFM(原子間力顕微鏡)